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化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)每一個設(shè)計作品都精妙

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等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD/PECVD應(yīng)用案例

日期：2022-11-07

CVD應(yīng)用——Graphene在任意襯底上的無催化生長

CVD應(yīng)用——外延Graphene/BN異質(zhì)結(jié)與摩爾超晶格

CVD應(yīng)用——Graphene的各向異性刻蝕技術(shù)發(fā)展

CVD應(yīng)用——Graphene的各向異性刻蝕技術(shù)發(fā)展2

CVD應(yīng)用——MoS2的原位氧取代摻雜和相變調(diào)控

CVD應(yīng)用——MoS2的原位氧取代摻雜和相變調(diào)控2

CVD應(yīng)用——外延構(gòu)筑各種MoS2范德華異質(zhì)結(jié)

CVD應(yīng)用——二/四英寸連續(xù)單層MoS2 的取向外延生長

CVD應(yīng)用——二/四英寸連續(xù)單層MoS2 的取向外延生長2

以上就是安徽澤攸科技有限公司為您介紹的等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD產(chǎn)品應(yīng)用，如果想要了解更多產(chǎn)品信息歡迎您咨詢18817557412(微信同號)

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